关键词： Mo-Si 多层反射膜; EUV 光刻; 双离子束溅射沉积; 斜角沉积; 掠角刻蚀

中图分类号：O434.2；O484 文献标识码：A

doi：10.37188/OPE.20263407.1087 CSTR：32169.14.OPE.20263407.1087

Improving of interfaci（试读）...